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      20微米的单层TiN

      20微米的单层TiN

      • 分类:消息
      • 作者:
      • 来源:
      • 发布时间:2020-06-17 11:10

      20微米的单层TiN

      【概要描述】

      • 分类:消息
      • 作者:
      • 来源:
      • 发布时间:2020-06-17 11:10
      详情

      PVD超硬涂层以其高硬度和耐磨特性而众所周知。通常这种膜层被沉积在刀具及耐磨部件上,其厚度范围在0.5 – 6 μm。

      为控制这种膜层的内应力,这种涂层主要采用纳米多层结构,以避免因较厚的单层膜而容易出现剥落现象。

      按照一个客户的要求,PVT公司开始着手开发一个工业化生产涂层工艺,用于沉积20微米厚的单层氮化钛。经过6个月的开发,一台PVT S2超硬涂层设备被制造出来,满足了客户的所有需求,这也特别归功于PDA*技术。

      该系统沉积出的20微米厚TiN膜层具有极其良好结合力,出色的重复性公差仅为+/- 0.2微米(总涂层厚度的+ / - 1%)。此外,通过新设计定制的旋转夹具,沉积20微米厚膜层的时间可以从10.5小时减少到3个小时。

      *PDA = Plasma Diffused Arc 等离子扩散电弧

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